八月中旬楼主收到了Micron一个做reticle cleaning的组的面试要约(先感谢一下地里帮忙内推的朋友,投了简历没多久之后就收到了面试通知)。楼主看job discription上其实是要求有3-5年经验的,于是准备的重心就放到学习这个process上。一面还是很算成功的,面试官(group manager)在问了我对这个过程的理解之后确实是像预期的一样问了一些可能会存在的问题。在介绍完我的博士课题和照例的简历上的一些细节拷问之后,问我可以怎么应用我的背景知识到这个岗位上(因为楼主是有腐蚀背景)这一块儿就还挺好回答的, 面试官也表现出了很大的兴趣, 后来第二天还加面问了一些DFT的问题,问是不是也可以应用到生产线上。很快我们就约了二面,面大department下其他的group managers。 一面的面试官说是让楼主准备一个总结博士课题30min左右的slides。结果二面完全没让楼主present, 问了很多时间生产的问题(How do you minimize the metal atom migration? How do you avoid the ion solution in DI water after the plasma process (the surface will be charged)? How to avoid the silica adsorption from the DI water or other charge electron with chemical or electrochemical methods? What advantage do you think if you decrease the boundary layer of megasonic cleaning?
The industry line does not have much data to analyze, do you have any solution for that?),最后一个问题另一个manager 还问出题的manager知道答案不?楼主只能硬着头皮从理论上去分析问题。
然后紧接着接到Micron连续两个组的电面,一个是做plasma etching的,一个是做device reliablity的。这两个面试楼主接的时候就没有太大把握,觉得和楼主的研究背景相差有点远。plasma etching的主要也是在介绍他们自己在做什么,然后就是让楼主介绍研究内容,然后就是简历上的一些问题。没有意外的问题,但很明显楼主的回答也没有惊艳到面试官。device的面试官一开始就说知道楼主是材料背景的,就问楼主为什么申请这个岗位,觉得对岗位有什么帮助。简历上的提问也是比较出人意料的,问了很多表征设备的基本原理,楼主凭印象勉勉强强给了些答案,结束可google了一下自己的回答倒是没有太大问题。倒是几个关于二极管的问题,doping对价带结构的影响之类的,楼主从基本的原理分析了一下,面试官只是说自己也不知道,就问问。。。。(the mechanism of SEM and XPS? how is electron beam emitted? how is electron detected? what material would you use to emit the electron? the MoS2? the commercialized photodetector? Is Si used?how would you select a material for photodetector for visual light? Direct or indirect? Why? what issue do you know about scaling down? Why you have to scale down the thickness of dielectrics? any device-related experience? diode could be used as photodetector? Highly doped or not? what happens to the depletion layer of the p-n junction of highly doped semiconductor? ) . 1point 3 acres